四极杆质谱仪NexION 5000G 凭借众多专利技术，将 ICP-MS 质谱平台推向巅峰，实现业内首创多重四极杆 ICP-MS。独有的四组四极杆设计结合碰撞反应池技术，提供超低的背景等效浓度和优异的检测极限，获得分析结果的高精度和可重现性，性能全面优于现有高分辨 HR-ICP-MS、传统三重四极杆和单四极杆 ICP-MS。

        NexION 5000G 四组四极杆组成的多重四极杆 ICP-MS 质谱平台，通过各四极杆的不同质量分辨能力和工作模式，

        结合碰撞反应池技术，实现化学高分辨，获得终极干扰消除。NexION 5000G 具有单四极杆、三重四极杆和多重四极杆能力，依据不同应用需求，简单、灵活进行选择，完美进行准确定量、干扰定性和分子离子反应机理研究等。

        四极杆离子偏转器（Q0）具有到动态扫描和固定离子筛选模式，第一个质量分析器（Q1）可用作质量分析器或离子导杆，通用池四极杆（Q2）灵活选择离子导杆（STD）、动能歧视（KED）和动态质量带宽调谐（DRC）模式，第二个质量分析器（Q3）可用作质量分析器或离子导杆。

        1.四极杆离子偏转器（Q0，Quadrupole Ion Deflector）是一个基于离子能量的静电质量分析器，对离子进行动态聚焦和质量筛选，同时把离子偏转 90 度以实现与中性

成分和光子分离，导入下一级四极杆。

        2.为第一个四极杆质量分析器（Q1，Transmission Analyzer Quadrupole），用

作质量分析器或将离子引导至四极杆通用池。它包含长预四极杆，可获得更好的高能离子聚焦，从而具有单位质量或更好的质量分辨，分辨率 < 0.3 amu。

        3.为四极杆通用池（Q2，Universal Cell Technology），是市场上唯一由四极杆构成的池技术，具有动态带宽质量调谐能力（从而可以对反应进行有效的控制），标配轴向场技术（从而可以使用任何所需的气体），既可以作为离子聚焦加速的离子通道，又可以作为特定离子的质量选择器，抑制池内副反应的产生，确保所需反应的完全，从而彻底消除干扰。

        4.为第二个四极杆质量分析器（Q3，Transmission Analyzer Quadrupole），用

作质量分析器或将离子引导至检测器。具有单位质量或更好的质量分辨，分辨率 < 0.3 amu。

         超低的背景等效浓度和优异的检测极限

         NexION 5000G 多重四极杆 ICP-MS，独有的四组四极杆设计结合碰撞反应池技术实现化学高分辨，提供超低的背景等，效浓度和优异的检测极限。

         自激式射频（RF）发生器

         耐受各类复杂基体，LumiCoil TM 射频线圈采用自散热 设 计，无 需 额 外 的 水 冷 或 风 冷，无 需 维 护。PlasmaLokTM 技术采用虚拟接地技术，消除等离子体二次放电，无需额外物理接地，因而无需维护和更换（如屏蔽炬）。

         四组四极杆

         NexION 5000G 多重四极杆 ICP-MS，独有的四组四极杆设计结合碰撞反应池技术，提供超低的背景等效浓度和优异的检测极限，获得分析结果的高精度和可重现性。

         三锥接口（TCI）与OmniRing 技术

         第二代三锥接口（TCI）融入创新的专利 OmniRingTM 技术，实现更好的基体耐受性和紧凑离子束，大锥孔设计有利于高总溶解固体含量样品信号稳定和避免锥口堵塞。三锥位于真空腔外，维护快速简单。

         四极杆离子偏转器 (QID)

         将离子束整体偏转 90 度，实现中性成分和光子的彻底分离，同时动态离子聚焦与质量筛选，降低背景和干扰，提供无以伦比的稳定性。

         通用池技术（UCT）

         四极杆通用池可灵活选择离子导杆、动能歧视和动态质 量 带 宽 调 谐 模 式。专 利 的 动 态 质 量 带 宽 调 谐（DBT），精确控制分子离子反应，有效抑制反应副产物的发生。标配四路碰撞反应气，池内可以使用各类纯气体及其混合气，包括活性很强的大分子等气体，如纯 NH3、He、H2、CH4、CH3F、O2 和 CO2 等。同时，池内气体可实现气路在线任意比例混合，非常灵活。

         基体耐受性

         NexION 5000G 是各类需要获得超低背景等效浓度和优异检测出能力的实验室的完美仪器。无与匹敌的基体耐受性，从无机基质到有机基质，从酸性溶液到碱性溶液，从等度洗脱到梯度洗脱，从超纯水（UPW）到高总溶解固体量（TDS）。

         平衡驱动自激式高频固态 RF 发生器，具有超快速匹配能力和强的稳健性，专利的 LumiCoil™ 技术增强等离子体稳定性和提高等离子体耦合效率，使得整个电感耦合等离子体（ICP）对各类基体具有强大的适应性，比如石脑油，异丙醇（IPA）等。

         全基体进样系统（AMS），让您轻松挑战各类样品分析。通过 AMS 使用氩气进行气体稀释，可获得高达 200 倍样品稀释，从而实现高达 35% TDS 样品分析而无需手动稀释；通过 AMS 使用有机加氧，含碳样品无需消解，氧气的通入避免高有机物含碳样品的锥口积碳，实现有机样品、油品和溶剂的直接分析；通过 AMS 使用 Ar/CH4、N2 等气体进行等离子体改性，改变 ICP 氩等离子体离子源性能，实现各类特殊应用分析。

         PlasmaLokTM 技术采用两路反向射频设计，平衡驱动，虚拟接地，消除等离子体二次放电，无需屏蔽炬。自激式

军用级横向扩散金属氧化物半导体（LDMOS）固态 RF 发生器，无需机械调节，获得极快速的阻抗匹配。

         在 LumiCoilTM 线圈中，每个散热片的位置是经过计算的，并且设计宽度较窄，用来抑制在散热片中径向流动的同轴射频电流（如图所示的红色部分）。

         LumiCoilTM 中独特的散热片设计使射频驱动电流只流经已界定的线圈绕组（如图所示的蓝色部分）和流入等离子体炬的附近区域，从而实现磁链强能力，优化射频功率与等离子体炬电感耦合，达到高的功率效率水平。

         稳定性

         四组四极杆质谱平台，第二代三锥接口（Triple Cone Interface）和四极杆离子偏转器（Quadrupole Ion Deflector）技术。

         业已证明的可靠三锥接口（TCI）融入创新的专利 OmniRingTM 技术，实现离子的三重聚焦。拥有独一无二的大孔径锥口和独有的超锥设计，实现更好的基质耐受性和紧凑离子束，阻止样品在质谱仪内部的沉积，以降低背景和干扰，优化信号稳定性。

         大锥孔设计有利于高总溶解固体含量样品信号稳定和避免锥口堵塞。OmniRingTM 技术确保仪器获得超低背景等效浓度的同时，更能适合各类复杂基质的应用。同时三锥位于真空腔外，维护快速简单。

         新一代离子提取技术的四极杆离子偏转器（QID）匹配专利的 Target Lens 技术，将离子束整体偏转 90 度，实现中性成分和光子的彻底分离，同时动态离子聚焦与质量筛选，降低背景和干扰，提供无以伦比的稳定性。该技术与三锥接口（TCI）完美结合，确保 NexION 5000G 四极杆通用池无需清洗或更换。